中文 / EN
当前位置Home > 首页 > 应用领域 > 新闻资讯
新闻资讯

氮化硅薄膜窗口和铜网碳膜的比较

发布时间:2021-04-26 16:37:36

氮化硅膜是指硅氮化合物的薄膜,常用作微电子技术电绝缘层。化学计量比的氮化硅由正方氮化硅晶胞组成,多余的硅原子在其中排列成六方结构。化学计量比的氮化硅由正方氮化硅晶胞组成,多余的硅原子在其中排列成六方结构。通过技术手段,制作成氮化硅薄膜窗口

氮化硅薄膜窗口 原位芯片 定制.jpg 

碳支持膜是一种常见并被广泛使用的一种支持膜,为两层支持膜结构,可以采用不同规格的载网做载体。由于碳层具有较强的导电以及导热性,弥补了无碳方华膜的荷电效应以及热效应,增强了膜整体的稳定性,可满足大多数纳米材料(尤其是可分散的粉体材料)的一般形貌测试需要。但是由于这种支持膜本身的结构导致了整体支持膜的厚度较大,一般不太容易满足高质量的高分辨测试的要求。

image.png

碳膜与氮化硅薄膜窗口的对比分析


碳膜

氮化硅膜窗口

价格

10~20元

80-200元

导电性

导电性较好

几乎不导电

散热速率

散热性较好

散热较差

耐温

不耐高温

耐温1000℃

最小厚度

3-5 nm

10 nm


原位芯片提供的氮化硅薄膜窗口,满足电镜观测实验使用。提供氮化硅膜窗口定制化服务,让更多实验室使用满足自己实验的氮化硅薄膜窗口。



版权所有 苏州原位芯片科技有限责任公司 © 苏ICP备15018093号-5  苏公安备 NO.32059002002439  网站地图