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氮化硅薄膜窗口是什么？
氮化硅因其来源广泛、易于加工成独立薄膜而被广泛采用，成为最受欢迎的 X 射线显微镜材料。 氮化硅的传统化学计量为 Si3N4，固有应力约为 1 GPa。氮化硅 (SiN) TEM 窗口栅具有坚固、平整、均匀的氮化硅膜，可广泛用作 TEM、SEM、Cryo-EM、AFM、拉曼、XRD 和其他设备的稳定观察平台，可以满足科研人员在高分辨率的条件下观察样品的微观结构和性质。应用领域包括纳米颗粒成像、碳定量分析、生物和化学实验、晶体生长研究等。
即使在苛刻的实验室条件下，SiN TEM 窗口栅格也能保持良好的性能，因此在成像分辨率、化学稳定性和机械强度之间取得了理想的平衡。由于它们还具有很高的耐温性，因此可以在很宽的温度范围内对膜本身进行纳米技术实验等。
8个选择维度
氮化硅薄膜的机械稳定性使 TEM、SEM 和 AFM 等一系列显微镜技术可用于各种纳米技术实验。细胞、纤维和颗粒等可直接安装在支撑膜上进行观察。
它们在硅支撑框架上有不同尺寸的窗口，适合标准的 3 毫米 TEM 固定架，膜的厚度范围从 20 纳米到 500 纳米不等。氮化硅膜在无尘室条件下生产，包装前经过化学清洗。通常，10 个氮化硅薄膜窗口装在一个网格盒中。
研究人员在选择氮化硅薄膜窗口时，可以从以下8个维度参考，包括外框尺寸、薄膜厚度、窗口数量、窗口尺寸、应力情况、洁净度、平整度、涂层。以下简单介绍其中几种维度，供大家参考
1. 外框尺寸
同步辐射氮化硅薄膜窗口的常规外框尺寸为5.0、7.5、10毫米，透射电镜(TEM)和扫描电镜（SEM）氮化硅薄膜窗口的常规外框尺寸为3x3mm。
2. 薄膜厚度
标准膜尺寸从10纳米到 200纳米不等，但原位芯片可以快速响应客户的定制设计要求，而且非常受欢迎。
3. 窗口数量
除了单窗格氮化硅模外，还可以支持定制由单个框架上的多个膜组成的窗口，用于实验分隔或提高大面积膜的稳定性。
4. 窗口尺寸
窗口大小决定了能够通过窗口并到达样品的电子通量。较小的窗口尺寸可以提供更高的成像分辨率，但也可能导致信号强度的降低。对于一般的成像和分析，较大的窗口尺寸是首选，而对于高分辨率的成像，则建议使用较小的孔径尺寸。应用于TEM的常用窗口大小从0.1mm到1mm之间。
5. 应力情况
制备氮化硅薄膜的方式有多种途径，比如低压化学气相沉积（LPCVD）、等离子增强化学气相沉积(PECVD)，但采用传统方法制得得氮化硅薄膜一般都处于某种应力状态，应力的存在会削弱氮化硅薄膜的绝缘、钝化、密封等效果，而且还会影响到半导体器件的性能，因此对氮化硅薄膜的应力控制尤为重要。
在生物学研究中，需要选择具有较低应力的氮化硅薄膜窗口，以避免对样品的损伤。而在材料科学研究中，需要选择具有较高应力的氮化硅薄膜窗口，以获得更准确的实验结果。原位芯片可支持定制0-1500Mpa的氮化硅薄膜应力。
